場發(fā)射掃描電鏡采用更為先進的肖脫基場發(fā)射光源。采用場發(fā)射光源后電子束能量更強，二次電子相(也就是我們平時所說的掃描照片)更加清晰，放大倍數(shù)在理想的情況下可以達到10萬倍以上。同時，在進行EBSD的測試中也具有相當?shù)膬?yōu)勢。主要由電子光學系統(tǒng)、信號收集處理系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、圖像處理顯示和記錄系統(tǒng)、樣品室樣品臺、電源系統(tǒng)和計算機控制系統(tǒng)等組成。
 

　　場發(fā)射掃描電鏡的工作原理：
 

　　掃描電子顯微鏡是以能量為1—30kV間的電子束，以光柵狀掃描方式照射到被分析試樣的表面上，利用入射電子和試樣表面物質(zhì)相互作用所產(chǎn)生的二次電子和背散射電子成像，獲得試樣表面微觀組織結構和形貌信息。配置波譜儀和能譜儀，利用所產(chǎn)生的X射線對試樣進行定性和定量化學成分分析。
 

　　場發(fā)射掃描電鏡的應用領域：
 

　　適用于納米材料精細形貌的觀察，可薛利高質(zhì)量高分辨二次電子圖像。該儀器配備的X射線能譜儀可對塊狀樣品做定性及半定量分析。可向樣品室充入多種氣體，在低真空下仍能獲得優(yōu)于2nm的高分辨圖像；可向樣品室通入水蒸氣，使含水、含油及不導樣品可直接觀察；可在樣品室內(nèi)對樣品做加溫、低溫處理，對化學反應過程進行實時觀測。該設備適用于物理、材料、半導體、超導體、化學高分子、地質(zhì)礦物、生物、醫(yī)學等領域的微觀研究和分析。